特許

J-GLOBAL ID：200903063581766324

硼素含有水の処理装置及び方法

発明者： 明賀 春樹 ,  落合 寿昭 ,  見並 勝佳
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-236553
公開番号（公開出願番号）：特開平10-080684
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】 硼素を効果的に除去する。【解決手段】 硼素含有水と、フッ化ナトリウムを錯体形成槽10において混合し、錯体を生成する。そして、RO膜装置16において、錯体を分離する。非解離状態の硼素を錯体の形成によって、解離状態とするため、pH中性付近でもRO膜装置16によって好適な硼素除去が行える。

請求項（抜粋）：

硼素含有水から硼素を除去する装置であって、硼素含有水に、硼素と錯体を形成する物質を添加混合し、錯体を生成する錯体生成手段と、この錯体生成手段から排出される錯体を含む水について、逆浸透膜処理を施し、錯体を分離する逆浸透膜装置と、を有することを特徴とする硼素含有水の処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/42 ZAB ,  C02F 1/58

FI (6件)：

C02F 1/44 H ,  C02F 1/44 A ,  B01D 61/02 500 ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/42 ZAB A ,  C02F 1/58 H