特許

J-GLOBAL ID：200903063593133211

光処理装置

発明者： 頭本 信行 ,  八木 俊憲 ,  出雲 正雄 ,  田中 正明
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-109403
公開番号（公開出願番号）：特開平5-318160
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：

【要約】【目的】 開口率の小さいマスクを使用して大面積の加工を可能にすると共に、マスク設定角度の変動に対する反射光学系の安定度を向上させる。【構成】 基板2Aに反射部2Bと、マスクパターンを形成する光通過部2Cとを設けたマスク2にレーザ光1を照射する。このマスク2と所定の距離を隔てて略平行に反射鏡3を配設する。この反射鏡3は、前記反射部2Bで反射された光を前記マスク2に向けて反射し、反射部2Bと反射鏡3との間で多重反射させる。この間にレーザ光1の一部は光通過部2Cを通過して結像レンズ4によりプリント基板5上に投影され、マスクパターンにしたがってバイアホールを加工する。加工に際して、マスク2とプリント基板5は同期して移動する。反射鏡3としては円筒面鏡または凹面鏡が使用される。

請求項（抜粋）：

光源からの光を通過させる光通過部と前記光を反射する反射部とを設けたマスクおよびこのマスクと所定の距離を隔てて略平行に設けられ前記反射部で反射された光を前記マスクに向けて反射する反射鏡を備え、前記光通過部を通過した光により被処理物を処理する光処理装置において、前記マスクを被処理物と平行に移動させることにより被処理物を処理することを特徴とする光処理装置。

IPC (5件)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 330 ,  G02B 7/198 ,  H05K 3/00 ,  B23K101:42