特許

J-GLOBAL ID：200903063594573681

三次元形状の形成方法

発明者： 内野々 良幸
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-340934
公開番号（公開出願番号）：特開平5-169552
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：

【要約】【目的】 光偏向素子でレーザ光の断接動作を行わせる三次元形状の形成方法において、レーザ光の利用効率を高め、消費エネルギーや設備コストを削減できる方法を提供する。【構成】 光硬化性樹脂液に光を照射して光硬化層を形成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、所要の三次元形状を形成する方法であって、光を連続的に掃引照射しながら、光偏向素子10のスイッチ動作で光の照射を断接して、光硬化性樹脂液に光硬化領域と非硬化領域とを設定する方法において、光偏向素子10から出力される第1次回折光L1 は遮断され、第0次回折光L0 は光硬化性樹脂液に到達できるようにしておく。

請求項（抜粋）：

光硬化性樹脂液に光を照射して光硬化層を形成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、所要の三次元形状を形成する方法であって、光を連続的に掃引照射しながら、光偏向素子のスイッチ動作で光の照射を断接して、光硬化性樹脂液に光硬化領域と非硬化領域とを設定する方法において、光偏向素子から出力される第1次回折光は遮断され、第0次回折光は光硬化性樹脂液に到達できるようにしておくことを特徴とする三次元形状の形成方法。

IPC (7件)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  G02B 27/46 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/20 505 ,  G02B 27/22 ,  B29K105:24