特許

J-GLOBAL ID：200903063601718054

フォトマスクの洗浄方法および洗浄装置

発明者： 垣貫 剛広 ,  山田 智紀 ,  後藤 哲哉 ,  鈴木 哲男
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-270240
公開番号（公開出願番号）：特開2002-082426
出願日： 2000年09月06日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】フォトマスク上にある異物を効果的に除去する洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、フォトマスクに該紫外光を一定時間照射し、その後、該フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。

請求項（抜粋）：

発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、フォトマスクに該紫外光を一定時間照射し、その後、該フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  G02F 1/1335 505

FI (4件)：

G03F 1/08 X ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 Z ,  G02F 1/1335 505

Fターム (21件)：

2H091FA02Y ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091FC24 ,  2H091FC26 ,  2H091LA15 ,  2H095BB22 ,  3B116AA01 ,  3B116AB01 ,  3B116AB34 ,  3B116BB21 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21