特許

J-GLOBAL ID：200903063606896767

アルキルハロシランの製造方法

発明者： スティーブン ケリー フリーバーン ,  ローランド リー ハルム ,  ジョセフ ピーター コハン ,  ジョナサン デビッド ワインランド
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-245057
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188258
出願日： 1994年10月11日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】 流動床プロセスでハロゲン化アルキルを粒状ケイ素と反応させるための改良方法を提供する。【構成】 改良点は、ケイ素の粒子寸法を1〜85μmの範囲内に制御することを含むものである。好ましいのは、ケイ素の粒子寸法が、第10番目の百分位数が2.1 〜6μm、第50番目の百分位数が10〜25μm、そして第90番目の百分位数が30〜60μmであることを特徴とする質量分布を有する場合である。最も好ましいのは、ケイ素の粒子寸法質量分布が、第10番目の百分位数が2.5 〜4.5 μm、第50番目の百分位数が12〜25μm、そして第90番目の百分位数が35〜45μmであることを特徴としている場合である。この方法は、銅及び他の触媒を含んでなる触媒組成物の存在下で実施される。

請求項（抜粋）：

下式で表されるアルキルハロシランRa Hb SiX4-a-b(この式中の各Rは炭素原子数1〜4のアルキル基から独立に選ばれ、a=1、2又は3であり、b=0、1又は2であり、a+b=1、2又は3である)の製造方法であって、次の式で表されるハロゲン化アルキルRX(この式中のRは炭素原子数1〜4のアルキル基であり、Xはハロゲンである)を、銅を含んでなる触媒組成物の存在下に、250 〜350 °Cの範囲内の温度において、1〜85μmの範囲内の大きさの粒状ケイ素の流動床と接触させることを含む方法。

IPC (4件)：

C07F 7/12 ,  C07F 7/16 ,  B01J 27/14 ,  C07B 61/00 300