特許
J-GLOBAL ID：200903063609713825
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-223905
公開番号（公開出願番号）：特開平5-060534
出願日： 1991年09月04日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 遮光パターンと位相パターンとが混在した位相シフト方式のパターンを検査対象とした場合に、遮光パターン又は位相パターンの何れに対してもパターンの有無、形状的な欠陥の有無等を高感度に且つ正確に検査できるようにする。【構成】 位相パターンの設計データより遮光パターンの設計イメージに対応する遮光パターン用データを作成する第1のデータ作成手段と、その位相パターンの設計データより位相パターンのエッジの設計イメージに対応する位相パターン用データを作成する第2のデータ作成手段と、その遮光パターン用データとその位相パターン用データとを合成し、設計合成イメージに対応する設計合成2値画像データBCを作成する合成手段と、検査用の多値画像信号MD1とその設計合成2値画像データBCとを比較する比較検査回路23とを有する。
請求項（抜粋）：
設計データに基づいて被検査物上に形成されたパターンの検査用画像データを得る撮像手段と、遮光パターン又は位相パターンの少なくとも一方の設計データより遮光パターンの設計イメージに対応する遮光パターン用データを作成する第1のデータ作成手段と、前記遮光パターン又は位相パターンの少なくとも一方の設計データより位相パターンのエッジの設計イメージに対応する位相パターン用データを作成する第2のデータ作成手段と、前記遮光パターン用データと前記位相パターン用データとを合成し、設計合成イメージに対応する参照用データを作成する合成手段と、前記検査用画像データと前記参照用データとを比較する比較手段とを有し、前記参照用データを用いて前記被検査物上に形成されたパターンを検査するようにした事を特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G03F 1/08
, G06F 15/62 405
, H01L 21/66
