特許
J-GLOBAL ID：200903063609764675
半導体装置の製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-319468
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163286
出願日： 1996年11月29日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィ工程では、目合せ・露光を行う際に、露光装置の誤差に基づく補正や、テストウェハを用いての補正を行っているが、前者ではプロセスにおける誤差を補正することはできず、後者ではテストの待ち時間により処理能率が低下する。【解決手段】 目合せ・露光装置1は、処理する半導体装置の製品情報やプロセス情報等のプロセス実績データD1をデータサーバ4に送出して補正値問い合わせH2を行う。データサーバ4は、入力されたプロセス実績データD1を記憶する一方で、これに対応する過去の測定実績データD0を読み出し、この測定実績データに基づいて所定のアルゴリズムで補正値を算出し、目合せ・露光装置1に補正値H1として送出する。目合せ・露光装置1では、この補正値H1によりホスト2から応答される標準処方S2を補正した設定を行う。過去の実績に基づいて補正を行うため、プロセスにおける誤差の補正も可能であり、テストウェハを用いなくとも高精度でかつ処理能率の高い処理が実現できる。
請求項（抜粋）：
リソグラフイ処理を行う処理装置と、この処理装置で処理された半導体装置における目標値に対する実績誤差を測定する測定装置と、その測定結果情報を蓄積し、前記処理装置からの要求に応じて過去の実績誤差に基づいた補正値を算出し、この補正値を前記処理装置に応答するデータサーバとを備え、前記データサーバは半導体装置の製品情報やプロセス情報等のプロセス実績データと、前記測定装置からの測定実績データを記憶するデータ蓄積部と、この記憶されたデータを各種情報に基づいて層別条件毎に整理し、かつ前記処理装置からの情報に基づいて対象データを設定するデータ整理部と、設定されたデータを所定のアルゴリズムで計算して前記補正値を得る補正値計算部とを備えることを特徴とする半導体装置の製造装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, H01L 21/02
, H01L 21/027
H01L 21/66 Z
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/30 502 G
