特許

J-GLOBAL ID：200903063615948982

酢酸、酢酸メチル及び無水酢酸の同時製造方法

発明者： 嚴 性 鎭 ,  韓 成 煥 ,  呉 俊 雨 ,  朱 五 心
出願人/特許権者： 財団法人韓国科学技術研究院
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-160927
公開番号（公開出願番号）：特開平6-100479
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 酢酸、酢酸メチル及び無水酢酸を同時に製造する方法であって、第一のカルボニル化反応器中で、ロジウム触媒及びハロゲン化物共触媒の存在下に、一酸化炭素、所望により水素との混合ガス、によりメタノールを気相カルボニル化して、酢酸及び酢酸メチルを製造する工程;酢酸を回収する工程;分離した酢酸メチルの残部を共触媒と一緒に第二のカルボニル化反応器に導入する工程;共触媒の存在下に、一酸化炭素、所望により水素との混合ガス、による酢酸メチルのカルボニル化により無水酢酸を製造する工程;そして生成した無水酢酸を回収し、共触媒を第一のカルボニル化反応器にリサイクルする工程よりなる方法。【効果】 総ての反応器の耐腐食性を改善するなどの利点を有する。

請求項（抜粋）：

酢酸、酢酸メチル及び無水酢酸を同時に製造する方法であって、(a)第一のカルボニル化反応器中で、ロジウム触媒及びハロゲン化物共触媒の存在下に、一酸化炭素、所望により水素との混合ガス、によりメタノールを気相カルボニル化して酢酸及び酢酸メチルを製造する工程;(b)反応混合物から生成物及び共触媒を分離し、酢酸を回収する工程;(c)分離した酢酸メチルの一定量を蒸留により回収し、分離した酢酸メチルの残部を共触媒と一緒に第二のカルボニル化反応器に導入する工程;(d)共触媒の存在下に、一酸化炭素、所望により水素との混合ガス、による第二のカルボニル化反応器に導入された酢酸メチルのカルボニル化により無水酢酸を製造する工程;そして(e)生成した無水酢酸から共触媒を分離し、続いて、無水酢酸を回収し、共触媒を第一のカルボニル化反応器にリサイクルする工程;よりなる方法。

IPC (8件)：

C07C 27/00 320 ,  B01J 31/12 ,  C07C 51/09 ,  C07C 51/12 ,  C07C 53/08 ,  C07C 53/12 ,  C07C 69/14 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭47-003331
  
• 特公昭52-003926
  
• 特開平4-257538
  
• 特開昭63-069719