特許

J-GLOBAL ID：200903063636579138

リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法

発明者： 野澤 順
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229183
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】 従来の熱処理では実現できない高い応力緩和効果と生産性を実現することができるマスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 マスクブランクの製造方法において、透明基板14上に少なくとも1層のレーザ光を吸収する性質を有する光吸収膜を形成し、この光吸収膜を形成した透明基板14に前記光吸収膜が吸収を有する波長のレーザ光12を照射することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するリソグラフィーマスクブランクの製造方法において、前記方法は、少なくとも1層のレーザ光を吸収する性質を有する光吸収膜を形成する工程と、この光吸収膜を形成した透明基板に前記光吸収膜が吸収を有する波長のレーザ光を照射して前記光吸収膜を加熱することにより、前記光吸収膜の内部応力を低減する工程を少なくとも含むことを特徴とするリソグラフィーマスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 L ,  G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (4件)：

2H095BA07 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-173252
  
• X線マスクの製造方法および加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-154322   出願人：三菱電機株式会社
• プラズマ処理装置及びその制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-048108   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭60-124384