フォトマスクパターン設計支援装置、フォトマスクパターン設計支援方法、および、フォトマスクパターン設計支援プログラムを記録した記録媒体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-232119
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066365
出願日： 1998年08月18日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】複数の演算処理プロセッサを用いて膨大な量のマスクパターンの光強度シミュレーションを並列処理により効率よく行い、かつ、パターン修正等の情報フィードバックを迅速に行うことができるフォトマスクパターン設計支援装置、方法、および、設計支援プログラムを記録した記録媒体を提供すること。【解決手段】 CAD装置から入力されたLSI回路パターンデータおよびマスクパターンデータのうち、マスクパターンデータを複数のパターン領域に分割し(ステップS1)、シミュレーションデータ形式に変換する(ステップS2)。そして、変換したシミュレーションデータを複数の演算処理プロセッサに分配し(ステップS3)、これら演算処理プロセッサによって算出されたシミュレーション結果に基づくパターンデータと、上記入力されたLSI回路パターンデータとを比較評価する(ステップS6)。

請求項（抜粋）：

フォトマスクパターン設計用CAD装置において作成された回路パターンデータおよび該回路パターンのフォトマスクパターンデータを入力するデータ入力手段と、光強度シミュレーションに必要な光学条件パラメータを入力するパラメータ入力手段と、複数の演算処理プロセッサを有し、前記フォトマスクパターンデータ、および、前記光学条件パラメータに基づいて、光強度シミュレーションのための演算を並列処理する並列処理手段と、前記データ入力手段により入力されたフォトマスクパターンデータを所定の条件に基づいて複数のパターン領域に分割して光強度シミュレーション用のデータ形式に変換した後、前記光学条件パラメータと共に前記並列処理手段の各演算処理プロセッサに分配すると共に、前記並列処理手段によって得られた各シミュレーション結果に基づくパターンデータと、該パターンデータに対応する前記回路パターンデータのパターンデータ部分とを比較評価し、前記フォトマスクパターン設計用CAD装置へフィードバックするデータ処理手段とを有することを特徴とするフォトマスクパターン設計支援装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G06F 17/50 , H01L 21/82

FI (3件)：

G03F 1/08 A , G06F 15/60 658 M , H01L 21/82 Z

Fターム (10件)：

2H095BB01 , 5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046CA01 , 5B046JA04 , 5F064DD03 , 5F064HH06 , 5F064HH09 , 5F064HH12 , 5F064HH13

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