特許
J-GLOBAL ID：200903063702335067
遠紫外線用高純度合成シリカガラス及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067387
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235134
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】本発明は、遠紫外線の光透過率が高く、耐遠紫外線性のある安定な合成シリカガラス及びその製造方法を提供すること。【解決手段】遠紫外線用シリカガラスにおいて、前記シリカガラスが合成シリカガラスであって、そのOH基濃度が10〜400wtppm、酸素欠損型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下、1000°C真空下における二酸化炭素放出量が5×1015分子/cm2以下及び水蒸気放出濃度が5×1017分子/cm3以下である遠紫外線用高純度合成シリカガラス、及びさらに酸素放出量が5×1014分子/cm2以下及び水素濃度が1×1016分子/cm3〜1×1020分子/cm3の範囲である遠紫外線用高純度合成シリカガラス並びに前記遠紫外線用高純度合成シリカガラスの製造方法。
請求項（抜粋）：
合成シリカガラスからなり、そのOH基濃度が10〜400wtppm、酸素欠損型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下、1000°C真空下における二酸化炭素放出量が5×1015分子/cm2以下及び水蒸気放出濃度が5×1017分子/cm3以下であることを特徴とする遠紫外線用高純度合成シリカガラス。
IPC (4件)：
C03C 3/06
, C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 4/00
C03C 3/06
, C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 4/00
