特許
J-GLOBAL ID：200903063704265937
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-331845
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171608
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 磁気コアをパターニングするためのコア用マスクを高い寸法精度で形成し、これによって所定のトラック幅を有しトラックプロファイルの良好な磁気コアを形成する。【解決手段】 磁気コアを形成する前工程で形成した材料層2を囲むようにしてレジスト溜めパターンを形成した後、このレジスト溜めパターン内に平坦化用レジスト4を充填し、この平坦化用レジストをマスク膜5で覆いながらエッチング加工を施すことでコア用マスク10を形成する。
請求項（抜粋）：
磁気コアを形成する前工程で形成された各材料層を囲むようにしてレジスト溜めパターンを形成する工程と、このレジスト溜めパターンで囲まれた空間に平坦化用レジスト材を充填する工程と、この平坦化用レジスト材上に磁気コアのパターンに対応したマスク膜を形成する工程と、レジスト溜めパターンと、マスク膜が形成された領域以外の平坦化用レジストを除去する工程によって、磁気コアをパターニングするためのコア用マスクを形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/31 C
, G11B 5/31 K
, G11B 5/39
