特許

J-GLOBAL ID：200903063724544271

ランプアニール装置

発明者： 井出 昌史 ,  飯島 浩 ,  長嶋 孝行
出願人/特許権者： シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-024585
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223549
出願日： 1997年02月07日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 基板上に形成する薄膜を高速加熱することが可能なランプアニール装置を提供する。【解決手段】 被アニール物が載置される試料台と、前記試料台を収容するチャンバーと、前記被アニール物にたいして光エネルギーを照射する加熱手段とを備えるランプアニール装置において、光源と、前記光源から放射される光を反射して前記被アニール物に照射させる反射鏡と、前記光を前記被アニール物上に投影するレンズと、前記レンズの近傍に設ける所定の形状の開口部を有するマスクとを有するランプユニットを複数具備し、かつ前記ランプユニットが一定の間隔で配設されている加熱手段を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被アニール物が載置される試料台と、前記試料台を収容するチャンバーと、前記被アニール物にたいして光エネルギーを照射する加熱手段とを備えるランプアニール装置において、光源と、前記光源から放射される光を反射して前記被アニール物に照射させる反射鏡と、前記光を前記被アニール物上に投影するレンズと、前記レンズの近傍に設ける所定の形状の開口部を有するマスクとを有するランプユニットを複数具備し、かつ前記複数のランプユニットが所定の間隔で配設されている加熱手段を備えることを特徴とするランプアニール装置。