特許
J-GLOBAL ID:200903063725951369

ハイドロシリレーション法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲高▼野 俊彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-290713
公開番号(公開出願番号):特開平8-127584
出願日: 1994年10月31日
公開日(公表日): 1996年05月21日
要約:
【要約】【目的】 系内を白金で汚染することなく反応を行うことができるハイドロシリレーション法を提供する。【構成】 一般式YSi(OR1)3で表される硫黄原子含有オルガノアルコキシシランと、一般式XSi(OR1)3で表される窒素原子含有オルガノアルコキシシランと、一般式Si(OR1)4で表されるオルガノアルコキシシランとを反応させて得られる一般式YmXnSi(OR1)p(OH)qO(4-m-n-p)/2で表される硫黄及び窒素原子を含む有機官能基含有ケイ素系樹脂と、白金化合物又はその錯化合物PtLaとの反応により調製された触媒の存在下で、分子中に少なくとも1個のケイ素と結合した水素原子を有する有機ケイ素化合物とオレフィン性不飽和結合を含有する有機化合物とを反応させる。
請求項(抜粋):
一般式YSi(OR<SP>1</SP>)<SB>3</SB>(但し、YはR<SP>2</SP>-Sa-R<SP>3</SP>-で表されるチオール又はチオエーテル官能基であり、式中R<SP>2</SP>は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、アリール基又は-R<SP>3</SP>-Si(OR<SP>1</SP>)<SB>3</SB>で表され、R<SP>3</SP>は炭素数1〜10の直鎖状又は分枝状のアルキレン基を表す。aは1〜4の整数を表す。R<SP>1</SP>は炭素数1〜4の一価炭化水素基を表す。)で表される硫黄原子含有オルガノアルコキシシランと、一般式XSi(OR<SP>1</SP>)<SB>3</SB>(但し、Xは【化1】で表されるアミノ官能性基又はNC-R<SP>3</SP>-で表されるシアノ官能性基であり、R<SP>4</SP>及びR<SP>5</SP>は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、アリール基、【化2】または-R<SP>3</SP>-Si(OR<SP>1</SP>)<SB>3</SB>を表す。R<SP>1</SP>及びR<SP>3</SP>は前記と同じ基を表す。)で表される窒素原子含有オルガノアルコキシシランと、一般式Si(OR<SP>1</SP>)<SB>4</SB>(但し、R<SP>1</SP>は前記と同じ基を表す。)で表されるオルガノアルコキシシランとを、Si-F結合を有するフッ素含有ケイ素化合物あるいはフッ素の塩化合物触媒の存在下、水あるいは含水有機溶剤中で反応させて得られる、一般式Y<SB>m</SB>X<SB>n</SB>Si(OR<SP>1</SP>)<SB>p</SB>(OH)<SB>q</SB>O<SB>(4-m-n-p)/2</SB>(但し、Y、X及びR<SP>1</SP>は前記と同じ基を表す。m、n、p及びqは、0<m<1、0<n<0.5(但し、n<m、0<m+n<1)、0≦p<0.1、0<q<1(但し、0<m+n+p+q<2)である。)で表される硫黄及び窒素原子を含む有機官能基含有ケイ素系樹脂と、白金化合物又はその錯化合物PtLa(但し、Lはそれぞれアミノ基又はメルカプト基により置換可能である少なくとも1個の配位子を表し、aはPtの遊離価を満足させる数を表す。)との反応により調製された触媒の存在下で、分子中に少なくとも1個のケイ素と結合した水素原子を有する有機ケイ素化合物とオレフィン性不飽和結合を含有する有機化合物とを反応させることを特徴とするハイドロシリレーション法。
IPC (6件):
C07F 7/08 ,  B01J 31/06 ,  C07H 23/00 ,  C08G 77/06 NUG ,  C08L 83/06 LRM ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (3件)

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