特許

J-GLOBAL ID：200903063741255410

レーザ描画方法及び描画装置

発明者： 浜田 史郎
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016066
公開番号（公開出願番号）：特開2001-208993
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】 回転ドラムの外周に装着されたワークに対してクロストークを生じることなく描画を行うことのできるレーザ描画装置を提供すること。【解決手段】 レーザビームを発生する複数の半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビームを、回転ドラム20の外周に巻かれたワーク22における互いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画装置であり、回転ドラムの回転量を検出するための回転検出器23と、複数のレーザビームに対応する複数のセルを有し、レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行うことのできる液晶マスクと、回転ドラムの1回転毎にレーザアレイ及び液晶マスクを所定のピッチだけ回転ドラムの中心軸方向にシフトさせるための移動機構30と、回転検出器からの検出信号を受け、回転ドラムの回転に応じて液晶マスク及び移動機構を制御するための制御装置24とを含む。

請求項（抜粋）：

連続してレーザビームを発生する複数の半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビームを、回転ドラムの外周に巻かれたワークにおける互いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画方法において、前記複数のレーザビームに対応する複数のセルを有して、レーザビームの通過、阻止をレーザビーム毎に行うことのできる液晶マスクを配置し、前記回転ドラムの回転に同期させて1回転毎に、前記液晶マスクを通過したレーザビームの照射領域を所定のピッチだけ前記回転ドラムの中心軸方向に沿ってシフトさせることにより、前記ワークに所望の描画を行うことを特徴とするレーザ描画方法。

IPC (10件)：

G02B 26/10 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/44 ,  B41J 2/45 ,  B41J 2/455 ,  G03B 27/32 ,  H01S 3/101 ,  H05K 3/00 ,  B23K101:38

FI (8件)：

G02B 26/10 G ,  B23K 26/00 J ,  B23K 26/06 J ,  G03B 27/32 Z ,  H01S 3/101 ,  H05K 3/00 N ,  B23K101:38 ,  B41J 3/21 L

Fターム (25件)：

2C162AE28 ,  2C162AE37 ,  2C162AE48 ,  2C162FA05 ,  2C162FA18 ,  2H045AG09 ,  2H045BA23 ,  2H045BA32 ,  2H045CA63 ,  2H045CA88 ,  2H045CB24 ,  2H106BA55 ,  2H106BH00 ,  4E068AG00 ,  4E068CB05 ,  4E068CC06 ,  4E068CD04 ,  4E068CD05 ,  4E068CD10 ,  4E068DA00 ,  5F072AB13 ,  5F072KK30 ,  5F072MM04 ,  5F072MM08 ,  5F072YY06

引用特許：

審査官引用 (1件)

• カラー露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-212544   出願人：富士写真フイルム株式会社