シリカ表面への触媒金属の担持方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：安達光雄 (外3名) , 安達光雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-230580
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071431
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】【目的】触媒金属を均一に分散させ、その粒子径を容易に調整できるシリカ表面への触媒金属の担持方法を提供する。【構成】ケイ素のアルコキシドにオキシカルボン酸を加えて加水分解を行い、これに触媒金属塩溶液を加えて焼成する方法により、シリカ表面へ触媒金属を担持する。この担持方法によれば、容易にシリカ表面での触媒金属の粒子径を調整することができ、しかも触媒金属を均一に分散させることができることから、触媒性能の優れた触媒を得ることができる。またこの方法は、従来知られている金属の担持方法に比べ、その工程が簡易であり産業上有益な方法である。

請求項（抜粋）：

ケイ素のアルコキシドにオキシカルボン酸を加えて加水分解を行い、加水分解物を乾燥した後触媒金属塩溶液を加え、これを300 〜500 °Cの範囲の温度で焼成することからなるシリカ表面への触媒金属の担持方法。

IPC (4件)：

B01J 37/03 , B01J 23/40 , B01J 23/42 , B01J 37/02 301

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭61-068314
特開昭61-061644
特開平4-270109

審査官引用 (3件)

特開昭61-068314
特開昭61-061644
特開平4-270109

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