特許

J-GLOBAL ID：200903063770356722

荷電粒子ビーム露光装置及び方法

発明者： 佐藤 高雅 ,  大饗 義久
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291056
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142359
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】 荷電粒子ビームをアパーチャプレート上で遮断しても、試料上のスリット像は位置変動することなく試料上の電流密度だけが減少して無くなるため、各ショットの解像度が向上し、高解像度の露光を可能とする。【構成】 ビーム遮断偏向器(1)を有する荷電粒子ビーム露光装置において、アパーチャ部材(6)上のクロスオーバー像をビーム遮断偏向器で遮断する際に、該ビーム遮断偏向器の上部又は下部に存在するスリット像が試料面からみて移動しないような仮想的な光軸に荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段(7)を設けた構成である

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームで形成されたクロスオーバー像をアパーチャ部材(6)上で偏向して形成された荷電粒子ビームを遮断するためのビーム遮断偏向器(1)を有する荷電粒子ビーム露光装置において、アパーチャ部材上のクロスオーバー像をビーム遮断偏向器で遮断する際に、該ビーム遮断偏向器の上部又は下部に存在するスリット像が試料面からみて移動しないような仮想的な光軸に荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段(7)を有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/305