特許
J-GLOBAL ID：200903063775655582
プラズマエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-011162
公開番号（公開出願番号）：特開平8-199378
出願日： 1995年01月27日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【構成】 測定されたピークツウピーク電圧値Vppが予め設定しておいたピークツウピーク基準電圧値Vpp′に近付くように高周波の供給電力量をフィードバック制御する制御手段17dが高周波電力供給手段17に装備されているプラズマエッチング装置10。【効果】 所定のバイアス電圧Vdcに対応するピークツウピーク基準電圧値Vpp′を設定しておくと、このピークツウピーク基準電圧値Vpp′と測定されたピークツウピーク電圧値Vppとが比較され、この差がゼロになるように高周波の供給電力量が調整され、ピークツウピーク電圧値Vppをピークツウピーク基準電圧値Vpp′に近付けることができる。この結果、試料26aを所定のエッチングレートで常時確実にエッチングすることができると共に、また特別の計測手段を必要としないため、装置10を安価に製造することができる。
請求項（抜粋）：
プラズマを発生させる手段と、ウエハを保持する試料台と、該試料台に高周波を印加する高周波電力供給手段とを備えたプラズマエッチング装置において、測定されるピークツウピーク電圧値が予め設定しておいたピークツウピーク基準電圧値に近付くように前記高周波の供給電力量をフィードバック制御する制御手段が前記高周波電力供給手段に装備されていることを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
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