特許

J-GLOBAL ID：200903063777955524

偏光板用保護膜の製造方法及び偏光板

発明者： 江藤 雅弘 ,  坂牧 聡 ,  重村 隆
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 田中 政浩 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-259993
公開番号（公開出願番号）：特開平7-112446
出願日： 1993年10月18日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】複屈折が極めて小さい偏光板用保護膜を製造できるようにして、偏光板の偏光度を向上させるようにする。【構成】セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、セルローストリアセテートフィルム中の揮発分をX%、フィルム表面温度をY°Cとしたとき、XおよびYが下記の式で示される領域でフィルムを乾燥させることを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法0<X<20のとき......Y>-6X+18020≦X≦60のとき......Y>-0.5X+70

請求項（抜粋）：

セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、セルローストリアセテートフィルム中の揮発分をX%、フィルム表面温度をY°Cとしたとき、XおよびYが下記の式で示される領域でフィルムを乾燥させることを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法0<X<20のとき......Y>-6X+18020≦X≦60のとき......Y>-0.5X+70

IPC (4件)：

B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  G02B 5/30 ,  B29L 7:00