特許

J-GLOBAL ID：200903063783516311

エッジ強調装置

発明者： 西片 丈晴
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-213211
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066993
出願日： 1993年08月27日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【構成】 入力画像信号から画像のエッジ位置を抽出するエッジ位置抽出部8及びこのエッジ位置に基づいてエッジ範囲を抽出するエッジ範囲抽出部9と、これら抽出部8,9の出力に基づいてエッジの強度を検出するエッジ強度抽出部10と、抽出部8,9の出力とエッジ強度抽出部10の出力とに基づき、エッジ領域の画像信号に高域成分を追加することで画像のエッジを強調する変形処理部11とを有する。【効果】 雑音の影響を受けにくい(ノイズが目立たない)エッジ強調を可能とする。

請求項（抜粋）：

入力画像信号から画像のエッジ領域を検出するエッジ領域検出手段と、上記エッジ領域検出手段の出力に基づいてエッジの強度を検出するエッジ強度検出手段と、上記エッジ領域検出手段の出力とエッジ強度検出手段の出力とに基づき、上記エッジ領域の画像信号に対して高域成分を追加することで画像のエッジを強調する変形処理手段とを有することを特徴とするエッジ強調装置。