プリント基板のレジスト形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本昂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-321657
公開番号（公開出願番号）：特開平6-169146
出願日： 1992年12月01日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】スルーホール12とアートワークフィルム16のランドに対応する部分とが多少ずれていたとしても、レジスト19がスルーホール12の一部を閉塞してしまうことのないレジストの形成方法を提供することを目的とする。【構成】スルーホール12及び表面に金属薄膜13が形成された基板母材11の一方の面をポジ型のフォトレジスト材14で一様に被覆し、該基板母材11の一方の面側にアートワークフィルム16を配置して、該基板母材11の両面側からそれぞれ紫外線17,18で露光した後に、該フォトレジスト材14の感光部分を除去して、レジスト19を形成する。

請求項（抜粋）：

スルーホール(12)及び表面に金属薄膜(13)が形成された基板母材(11)の一方の面をフォトレジスト材(14)で一様に被覆し、該基板母材(11)の一方の面側にアートワークフィルム(16)を配置して、該基板母材(11)の両面側からそれぞれ紫外線(17,18) で露光した後に、該フォトレジスト材(14)の感光部分を除去することを特徴とするプリント基板のレジスト形成方法。

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