特許
J-GLOBAL ID：200903063792032238
半導体基板洗浄方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-164470
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008223
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板の洗浄液からメタル不純物を効果的に除去し洗浄液を循環させて使用可能とする半導体基板の洗浄方法および装置を提供する。【構成】 半導体基板3に対し洗浄液4を供給して該半導体基板を洗浄する半導体基板洗浄方法において、洗浄すべき半導体基板3と同じ材質のフィルターエレメントからなるフィルター8を介して前記洗浄液4を供給する。
請求項（抜粋）：
洗浄すべき半導体基板に対し洗浄液を供給して該半導体基板を洗浄する半導体基板洗浄方法において、洗浄すべき半導体基板と同じ材質のフィルターエレメントを介して前記洗浄液を供給することを特徴とする半導体基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
