特許

J-GLOBAL ID：200903063832559153

塗布装置

発明者： 永沼 肇
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-278380
公開番号（公開出願番号）：特開2004-113880
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】塗布工程と乾燥工程とを連続して繰り返し行うとともに、表面塗布と裏面塗布の回数や順序を容易に変更することができる塗布装置を提供する。【解決手段】本発明に係る塗布装置10は、第1モジュール12、第2モジュール14、及び第3モジュール16、18から構成される。第1モジュール12の巻き戻し機20から送り出されたウエブ22は、各モジュールで塗布工程と乾燥工程が繰り返し施された後、第2モジュール14の巻き取り機68に巻き取られる。各塗布部24、28、44、48、54、58、64の前段には、反転装置32が設けられている。反転装置32は、ウエブ22の表裏面を反転させることができ、その使用、不使用を任意に選択することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ウエブに塗布液を塗布する塗布部、及び該塗布部によって塗布された塗布液を乾燥させる乾燥部を有し、水平方向に細長く形成された装置ユニットを、複数接続することによって、前記ウエブに複数層の塗布膜を連続して形成する塗布装置において、 前記複数の装置ユニットは、横方向に並べて配置されるとともに、前記ウエブの表裏面を反転可能な反転手段が前記各装置ユニットに設けられることを特徴とする塗布装置。

IPC (5件)：

B05C13/02 ,  B05C5/02 ,  B05C9/14 ,  B05C11/00 ,  G11B5/842

FI (6件)：

B05C13/02 ,  B05C5/02 ,  B05C9/14 ,  B05C11/00 ,  G11B5/842 B ,  G11B5/842 Z

Fターム (12件)：

4F041AA12 ,  4F041AB02 ,  4F041CA02 ,  4F042AA22 ,  4F042BA08 ,  4F042DB17 ,  4F042DF15 ,  4F042DF26 ,  4F042DF28 ,  5D112CC01 ,  5D112CC09 ,  5D112CC11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 塗布乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-271492   出願人：コニカ株式会社