特許
J-GLOBAL ID：200903063832629984
結晶欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045320
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258238
出願日： 1993年03月05日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 被検査結晶体の上面に付着したごみ等の影響を受けずに、上面近傍の被検査結晶体内に存在する結晶欠陥等の有無を検査する方法を提供する。【構成】 結晶欠陥検査方法は、被検査結晶体(1)の側部に上面(7)と所定の傾き角度を有する反射面(13)を形成し、被検査結晶体(1)の表面を研磨し、被検査結晶体の上面(7)の上方に載置された観察用レンズ(6)を被検査結晶体(1)の上面近傍に焦点合わせし、次に反射面(13)で反射される光ビームが上面(7)と略平行に被検査結晶体(1)内部を伝播するように被検査結晶体の下面(12)から光ビームを入射させ、観察用レンズ(6)を経て検出される散乱光(5)による像を観察して被検査結晶体(1)内の結晶欠陥、析出物、または異物等(4)の有無を検査することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被検査結晶体の側部に上面と所定の傾き角度を有する反射面を形成し、被検査結晶体の表面を研磨し、被検査結晶体の上面の上方に載置された観察用レンズを被検査結晶体の上面近傍に焦点合わせし、前記反射面で反射される光ビームが上面と略平行に被検査結晶体内部を伝播するように被検査結晶体の下面から光ビームを入射させ、前記観察用レンズを経て検出される散乱光による像を観察して被検査結晶体内の結晶欠陥、析出物、または異物等の有無を検査することを特徴とする結晶欠陥検査方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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