特許
J-GLOBAL ID：200903063837629370
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-251886
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076244
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 保護膜形成によるウェハの反りを補償することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【構成】 ウェハの表面に複数の磁気変換素子を形成した後、これら磁気変換素子を含めて表面を覆うべく保護膜21を形成する工程を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、保護膜21形成の後に、ウェハ20の裏面20bを粗面に加工する。
請求項（抜粋）：
ウェハの表面に複数の磁気変換素子を形成した後、該磁気変換素子を含めて該表面を覆うべく保護膜を形成する工程を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記保護膜形成の後に、前記ウェハの裏面を粗面に加工することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
引用特許：
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