特許
J-GLOBAL ID：200903063848045320
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-089239
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275546
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 被処理体をクーロン力により保持する静電チャックの被処理体を保持する保持部の残留電荷を非接触で確実に、かつ短時間で除電することができるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wをクーロン力にて保持する静電チャック7を具備し、前記被処理体Wをプラズマを生起させ処理するプラズマ処理装置において、前記被処理体Wを処理する処理室1に処理ガスを導入するガス導入手段14と、このガス導入手段14により導入された処理ガスをイオン化するイオン化手段80とを具備し、このイオン化手段80によりイオン化された処理ガスを前記静電チャック7の前記被処理体保持部32に供給するよう構成したものである。
請求項（抜粋）：
被処理体をクーロン力にて保持する静電チャックを具備し、前記被処理体をプラズマを生起させ処理するプラズマ処理装置において、前記被処理体を処理する処理室に処理ガスを導入するガス導入手段と、このガス導入手段により導入された処理ガスをイオン化するイオン化手段とを具備し、このイオン化手段によりイオン化された処理ガスを前記静電チャックの前記被処理体保持部に供給するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/68
