特許

J-GLOBAL ID：200903063858301707

現像処理方法およびその装置

発明者： 江藤 英雄 ,  伊藤 康浩
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-331753
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167210
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】 パドル現像法における溶解生成物の存在に起因する現像低下を抑制することが可能な現像処理方法を提供しようとするものである。【解決手段】 被処理基板上のレジスト膜に露光した後、前記レジスト膜の表面全体にアルカリ現像液の膜を形成する工程と、前記現像液による前記レジスト膜の現像中に前記レジスト膜をその中心部から周縁部に向かって温度が高くなるように加熱することにより現像中に前記レジスト膜表面に生成された溶解物を前記レジスト膜の周縁部に移動させる工程とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理基板上のレジスト膜に露光した後、前記レジスト膜の表面全体にアルカリ現像液膜を形成する工程と、前記現像液膜による前記レジスト膜の現像中に前記レジスト膜をその中心部から周縁部に向かって温度が高くなるように加熱することにより現像中に前記レジスト膜表面に生成された溶解物を前記レジスト膜の周縁部に移動させる工程とを具備したことを特徴とする現像処理方法。

IPC (3件)：

G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F