特許

J-GLOBAL ID：200903063882378583

投影露光方法及び露光装置

発明者： ルドルフ・フォン・ブノー ,  福田 宏
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-121115
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316125
出願日： 1995年05月19日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【構成】 マスク1を投影光学系2により基板4上へ投影露光する際、マスク1と投影光学系2の間に2枚の回折格子(A,B)を、投影光学系と基板の間に1枚の回折格子Cを設け、これにより回折された光の干渉により基板面近傍でマスクパターンの像が再生されるようにした。【効果】 従来露光装置の空間部分に回折格子を挿入するだけで、光学系のNAを実質的に最大2倍にした効果が得られる。このため、大きな露光フィールドを持ち大量生産に適した縮小投影光リソグラフィを用いて、寸法0.1μmクラスのLSIの製造が可能となる。

請求項（抜粋）：

マスクを準備する工程と、光源からの光を上記マスクに照射する工程と、上記マスクのパターンを回折する工程と、該回折した光を投影光学系を通して回折し試料上に上記マスクパターンを再生し露光する工程から成ることを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 528 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 Z ,  H01L 21/30 515 Z