特許
J-GLOBAL ID:200903063896380556
エマルジョン中での複合高分子粒子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
熊倉 禎男
, 小川 信夫
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 平山 孝二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-519123
公開番号(公開出願番号):特表2004-537619
出願日: 2002年07月26日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
a) ビニル芳香族またはビニル芳香族/共役ジエンの混合物から選ばれたモノマーの水性エマルジョン中での第1のラジカル重合工程、それによって第1のラテックスを得ること;b) 工程(a)で得られたラテックス上で、クロロプレンまたはクロロプレンとクロロプレンに対して10質量%よりも多くないクロロプレンと共重合し得るモノマーの混合物を重合させることからなる水性エマルジョン中での第2のラジカル重合工程、それによって本発明のラテックス目的物を得ること;を特徴とする複合高分子粒子から本質的になる水性ラテックスの製造方法を開示する。
請求項(抜粋):
a) 最高で10%のクロロプレンを任意成分として添加したビニル芳香族モノマーまたはビニル芳香族/共役ジエンの混合物から本質的になる重合性組成物の水性エマルジョン中での第1のラジカル重合工程、それによって第1のラテックスを得ること;
b) 工程(a)で得られたラテックス上で、クロロプレンまたはクロロプレンとクロロプレンに対して10質量%よりも多くないクロロプレンと共重合し得るモノマーの混合物を重合させることからなる水性エマルジョン中での第2のラジカル重合工程、それによって本発明のラテックス目的物を得ること;
を特徴とする水性ラテックスの製造方法。
IPC (3件):
C08F257/02
, C09J111/02
, C09J151/00
FI (3件):
C08F257/02
, C09J111/02
, C09J151/00
Fターム (20件):
4J026AA16
, 4J026AA17
, 4J026AC36
, 4J026BA49
, 4J026BB02
, 4J026BB04
, 4J026DA04
, 4J026DA16
, 4J026DB04
, 4J026DB40
, 4J026FA04
, 4J026GA02
, 4J026GA06
, 4J026GA08
, 4J040CA15
, 4J040DB05
, 4J040DL00
, 4J040DL14
, 4J040QA01
, 4J040QA02
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭58-089602
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特開昭59-210917
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