特許

J-GLOBAL ID：200903063902923419

露光方法及び装置

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-157635
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349009
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 露光光源から飛散粒子が発生するような場合であっても、その飛散粒子による露光装置の光学部材の光学特性の劣化を抑える。【解決手段】 高出力レーザ光源LDから射出されたレーザ光を、集光レンズCLにより集光する。その集光点に、ノズルNZLよりターゲットとしてのキセノンガス(Xe)等を噴出してEUV光ELを発生させ、集光ミラーCMにより集光する。集光ミラーCMと折り返しミラー17との間の光路上に、EUV光ELに対して所定の透過率を有する透過フィルタ18を配置しておき、透過フィルタ18で飛散粒子を吸収する。透過フィルタ18を透過したEUV光ELを、折り返しミラー17により偏向し、フライアイミラーFEM1,FEM2により照度分布を均一化して、コンデンサミラーCDMにより集光し、この露光ビームを用いて露光を行う。

請求項（抜粋）：

波長100nm以下の光を露光ビームとして用いて、所定のパターンを基板上に転写する露光方法であって、前記露光ビームを複数の反射部材を介して前記パターンに照射するに際して、前記露光ビーム中に混入している粒子を低減することを特徴とする露光方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00 ,  H05H 1/24

FI (6件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00 Z ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/30 531 S

Fターム (15件)：

2H097AA02 ,  2H097AB09 ,  2H097BB00 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097EA03 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA09 ,  5F046GA20 ,  5F046GB01 ,  5F046GB04 ,  5F046GC03