特許
J-GLOBAL ID：200903063906303792
金属被膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-326252
公開番号（公開出願番号）：特開2004-164876
出願日： 2002年11月11日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】低温焼成によって、導電性が高く、かつ密着性の高い被膜の形成が可能な金属被膜形成方法の提供。【解決手段】有機分散媒に、粒子径が200nm以下の還元可能な金属酸化物を分散させた分散体を基板に塗布した後、非酸化性雰囲気中で焼成したのち、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする金属被膜形成方法。【選択図】 選択図なし。
請求項（抜粋）：
有機分散媒に、粒子径が200nm以下の還元可能な金属酸化物を分散させた分散体を基板に塗布した後、不活性性雰囲気中で焼成したのち、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする金属被膜の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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