特許
J-GLOBAL ID:200903063928576601
半導体レーザ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
薄田 利幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-000861
公開番号(公開出願番号):特開平6-204605
出願日: 1993年01月07日
公開日(公表日): 1994年07月22日
要約:
【要約】【目的】In1-x-yGaxAlyP1-zAsz(0≦x≦1、0≦y≦1、0.5≦x+y≦1、0≦z≦0.5)をクラッド層とし、電流注入により室温で発振する半導体レーザ装置を提供すること。【構成】基板1上に、歪超格子活性層5と、In1-x-yGaxAlyP1-zAsz(ただしx、y、zの値は、0≦x≦1、0≦y≦1、0.5≦x+y≦1、0≦z≦0.5の範囲である)からなるクラッド層3、7とを有し、この歪超格子活性層5に隣接して、In1-x-yGaxAlyP1-zAsz(ただしx、y、zの値は、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1、0≦z≦1の範囲である)からなるガイド層4、6を配置した半導体レーザ装置。
請求項(抜粋):
基板上に、歪活性層と、In1-x-yGaxAlyP1-zAsz(ただしx、y、zの値は、0≦x≦1、0≦y≦1、0.5≦x+y≦1、0≦z≦0.5の範囲である)からなるクラッド層とを有する半導体レーザ装置において、上記歪活性層に隣接して、In1-x-yGaxAlyP1-zAsz(ただしx、y、zの値は、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1、0≦z≦1の範囲である)からなるガイド層を配置したことを特徴とする半導体レーザ装置。
引用特許:
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