特許

J-GLOBAL ID：200903063934986471

荷電粒子線露光装置

発明者： 奥村 正秀 ,  松岡 玄也 ,  依田 晴夫 ,  斉藤 徳郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-230046
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074404
出願日： 1991年09月10日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】【目的】本発明は、荷電粒子線露光装置に関し、実時間での装置異常を検出、適確な処理を可能とすることにより、装置の信頼性を高める。【構成】電子ビーム位置異常検知部(7)と、電子ビーム異常検知部(11)と、これらとの間で信号の授受をする描画制御部(1)、及び周辺回路から成る。【効果】装置の信頼性が高められるので、描画歩留まりの向上、ダウンタイムの短縮、さらには描画したウエハーを検査する手間が省けるなどの効果がある。

請求項（抜粋）：

荷電粒子源と、該粒子源から発生した荷電粒子をビーム状に整形する電子光学系と、該整形された荷電粒子ビームをオンオフ制御するためのブランキング部と、荷電粒子ビームを被露光材料上で偏向し描画するための偏向系部と、該偏向系部および、上記ブランキング部に描画制御信号を送る描画制御部とを備えた装置において、前記荷電粒子ビームを被露光材料に照射する前に、該荷電粒子ビームが所望の位置に偏向されているか否かを、実時間で検知する手段と、荷電粒子線位置の異常を検知した場合、その個所への荷電粒子線照射を中止し、所定の位置異常処理を実行する第1の異常処理手段と、実時間で荷電粒子線の異常を検知する手段と、荷電粒子線の異常を検知した場合、所定の異常処理を実行する第2の異常処理手段とを含むことを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (5件)：

H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/04 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-094822
  
• 特開昭56-018424
  
• 特開昭61-154030