特許
J-GLOBAL ID：200903063935206550
微細加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-330455
公開番号（公開出願番号）：特開平6-179087
出願日： 1992年12月10日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 被加工物の加工精度の影響が少なく、被加工物に複数のパターンを加工する微細加工方法を得る。【構成】 誘電体薄膜に複数のパターンを形成したマスクを介して被加工物にUVレーザ光を照射し、マスク上のパターンを順次被加工物に加工する。順次パターンを形成する場合に、マスク、光学系および被加工物をそれぞれ単独あるいは組合せて駆動する。
請求項（抜粋）：
被加工物にマスクを介してUVレーザ光を照射し、上記被加工物に所定の加工をする微細加工方法において、誘電体薄膜に複数のパターンを形成した上記マスクを介して上記UVレーザ光を照射し、上記被加工物に上記パターンを順次形成することを特徴とする微細加工方法。
IPC (3件)：
B23K 26/00 330
, B23K 26/06
, B23K 26/08
