特許
J-GLOBAL ID：200903063940542518
絶縁膜形成用塗布液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037498
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237386
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 トリアルコキシシランのみを縮合することにより耐クラック性の高い珪素樹脂を得、かつ特定の塗布用溶剤を用いることにより、密着性・段差埋め込み性に優れた絶縁膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 以下の工程を含む製造法により得られる絶縁膜形成用塗布液。反応工程:下記化学式(1)で表されるトリアルコキシシランを沸点85°C以下のアルコール系溶剤中で縮合させることにより、主鎖にSi- O- Si基を有する珪素樹脂を製造する工程HSi(OR)3 (1)(ただし、式中Rは同一あるいは異なってはC1〜C4のアルキル基,アルケニル基を示す。)希釈工程:得られた珪素樹脂のアルコール溶液に沸点が100〜160°C、且つ溶解度パラメータが8.0〜9.0cal 1/2 ・cm-3/2の塗布用溶剤を珪素樹脂の固形分が7重量%以下になるように添加する工程蒸留工程:アルコール成分含有量が20重量%(対珪素樹脂溶液)以下まで蒸留を行う工程
請求項（抜粋）：
以下の工程を含む製造法により得られる絶縁膜形成用塗布液。反応工程:下記化学式(1)で表されるトリアルコキシシランを沸点85°C以下のアルコール系溶剤中で縮合させることにより、主鎖にSi- O- Si基を有する珪素樹脂を製造する工程HSi(OR)3 (1)(ただし、式中Rは同一あるいは異なってはC1〜C4のアルキル基,アルケニル基を示す。)希釈工程:得られた珪素樹脂のアルコール溶液に沸点が100〜160°C、且つ溶解度パラメータが8.0〜9.0cal 1/2 ・cm-3/2の塗布用溶剤を珪素樹脂の固形分が7重量%以下になるように添加する工程蒸留工程:アルコール成分含有量が20重量%(対珪素樹脂溶液)以下まで蒸留を行う工程
IPC (2件)：
FI (2件)：
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