特許

J-GLOBAL ID：200903063944842850

放射ビーム描画装置

発明者： 高 橋 誠
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030808
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228350
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 多量の被描画材料が貯蔵でき、且つ大気との反応を阻止するガスの外部へ流出を少なくするストッカーを提供する。【解決手段】 ドア38を閉じた状態でバルブを開けて、不活性ガスをストッカー内及び各材料貯蔵室30a,30b,30c,......内に導入する。所定時間後、エレベータ機構により運び出すべき材料が入った材料貯蔵室の吹き抜け部がストッカー壁の穴37に対面する位置に達するまで材料容器31をZ方向に移動させ、ドア38を開く。材料搬送機構のアームに、穴37に対面した材料貯蔵室に貯蔵された被描画材料を載せる。被描画材料をカセットに装着し、ゲートチャンバー8を開き、アームに保持されたカセットに装着された被描画材料を載置台6上に置く。

請求項（抜粋）：

ストッカーに貯蔵された被描画材料を描画室のステージ上に搬送し、該描画室において被描画材料上に放射ビームによりパターンを描くように成した放射ビーム描画装置において、前記ストッカーは、被描画材料を載せるための棚,被描画材料に塗布されたレジストを大気からガードするためのガスの供給系の管と繋がったガス導入孔,及び材料搬送口が設けられた材料貯蔵室を複数段重ねた構造の材料容器を内部に備えており、前記材料搬送口に対向する側のストッカー壁に該材料搬送口の1つ乃至2つ分程度の大きさの穴が開けられており、その穴を開閉するためのドアがストッカー壁に設けられており、及び、前記材料容器が前記材料貯蔵室が重なっている方向に移動可能に成っていることを特徴とする放射ビーム描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 541 L ,  H01J 37/20 B ,  H01L 21/68 T

Fターム (11件)：

5C001AA01 ,  5C001AA02 ,  5C001AA07 ,  5C001CC06 ,  5F031CA02 ,  5F031CA17 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09 ,  5F056EA12