3次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び3次元物体を製造する装置および方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-119348
公開番号（公開出願番号）：特開2000-326416
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 3次元物体製造装置を校正するための改良された方法を提供する。【解決手段】高速プロトタイピングシステムにおける電磁照射又は粒子照射を発生する照射装置の制御を校正する方法は、光学的に検出可能な基準マークを備えた第一の領域と、この第一の領域から分離しかつ照射装置の照射に感応する媒体を持つ第二の領域とを備えた上面側を持つ校正プレートを、高速プロトタイピングシステム内の規定位置に配置し;位置座標データにより規定される予め定められた所望位置で前記媒体を前記照射に露光させることによりテストパターンを生成し;基準マークを備えた校正プレートの第一の領域とテストパターンを持つ校正プレートの第二の領域とをデジタル化し;デジタル化された基準マークとデジタル化されたテストパターンとを比較し;この比較に基づいて照射装置の制御用の補正データを算出し提供する。

請求項（抜粋）：

3次元物体の連続層中の材料を、前記層中の前記物体の断面に対応する場所で、前記材料を固化する照射の集束ビームを用いて固化することにより、前記3次元物体を製造する装置を校正する方法であって、前記物体は前記3次元物体を製造する装置に対して相対的に固定された不変座標系を規定するプレート上で成形されるようにした、前記3次元物体を製造する装置を校正する方法において、a)検出可能な基準機構を前記プレート上に設けて、前記座標系を計算するステップと、b)制御手段を動作させて、前記集束照射ビームを前記座標系の予め定められた所望位置に偏向させるステップと、c)前記プレート上の前記偏向照射ビームの実位置を検出するステップと、d)前記基準機構に基づいて前記実位置と前記所望位置との偏差を決定するステップと、e)前記決定された偏差に基づいて前記制御手段を調節するステップとを有することを特徴とする、3次元物体を製造する装置を校正する方法。

IPC (3件)：

B29C 67/00 , B23K 26/00 , B23K 26/10

FI (3件)：

B29C 67/00 , B23K 26/00 G , B23K 26/10

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平3-218816
三次元形状の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-127991 出願人：松下電工株式会社
特開昭60-169911

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審査官引用 (6件)

特開平3-218816
特開平3-218816
三次元形状の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-127991 出願人：松下電工株式会社

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