特許

J-GLOBAL ID：200903063960445292

X線露光装置

発明者： 三井 壮一郎 ,  室岡 賢一 ,  東川 巌
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-054298
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263316
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 X線マスクパターンの歪補正および倍率補正を高精度に微小変位の制御可能なマスクステージを用いて行うことにより、位置精度の高い転写が可能なX線露光装置を提供することにある。【構成】 マスク保持部を変形してX線マスクのパターン搭載領域外周の任意の部位に面外変形を発生させることにより、パターン位置を制御して歪みや倍率補正を行い位置精度の高い転写が可能なX線露光装置を得る。

請求項（抜粋）：

少なくともX線吸収体パターンが形成されたX線透過性薄膜と該X線透過性薄膜を支持するマスク支持枠領域より構成されるX線マスクを露光装置に保持する際に、該X線マスクに変形を与えることによりX線吸収体パターンに位置歪みを与え、パターン転写位置を制御した露光を行うことを特徴とするX線露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 531 M