光の二次元測定方法および表面粗さ測定方法と測定装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-193143
公開番号（公開出願番号）：特開平6-221811
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【目的】光源あるいは物体表面の反射光の光強度分布を光学的に測定し、光の二次元的広がりや物体表面の粗さを求める。【構成】二次元光センサ5により光を検出し、その光強度分布曲線に近似した二次元ガウス関数を求め、この関数の主軸により光の位置を演算し、標準偏差により光の広がりや表面粗さを測定する。

請求項（抜粋）：

レーザビーム等の光強度の二次元分布を非接触式光学方式により求める光の測定方法において、光源もしくは反射体からの反射光をCCD等の二次元光センサにより、その光強度分布に応じたx,y座標の値として検出するとともに、このx-y平面における光の強度分布を演算処理装置にて近似する二次元ガウス関数としてとらえ、上記二次元光センサのx-y平面に配した複数の受光画素列の出力に基づくデジタル変換データを上記二次元ガウス関数のx,y座標データとして取り込み、ガウス関数の主軸のx,y座標px ,py を演算して求めることにより、上記光の二次元的位置を決定することを特徴とする光の二次元測定方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 , G01B 11/30 102 , G01J 1/02

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