特許
J-GLOBAL ID:200903063974522613

積層方法を用いた広帯域偏光膜の製造方法及びこれを用いた液晶表示素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-002766
公開番号(公開出願番号):特開平11-264907
出願日: 1999年01月08日
公開日(公表日): 1999年09月28日
要約:
【要約】【課題】 可視光線領域である400〜800nmに渡る広帯域で反射光波長の選択帯域の中心を有し、反射率も向上させて偏光効率を改善する偏光膜を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、反射光波長の選択帯域の中心が互いに異なるコレステリック液晶1を基板に塗布し、前記塗布された液晶層に光重合開始剤を添加して光照射することにより光重合液晶フィルムを生成するフィルム生成工程と;前記少なくとも2個以上の液晶フィルム1を反射光波長の選択帯域の中心が重なり合わないように選択し、選択された順に接着して積層する積層工程;及び前記積層された液晶フィルム1上に円偏光を直線偏光に変化させるためのλ/4波長板3を付着する付着工程とを含む。
請求項(抜粋):
反射光波長の選択帯域の中心が互いに異なる少なくとも2個以上のコレステリック液晶フィルムを製造するために、反射光波長の選択帯域の中心が互いに異なるコレステリック液晶を基板に塗布し、前記塗布された液晶層に光重合開始剤を添加して光照射することにより光重合液晶フィルムを生成するフィルム生成工程と、前記少なくとも2個以上の液晶フィルムを反射光波長の選択帯域の中心が重なり合わないように選択し、選択された順に接着して積層する積層工程とを含むことを特徴とする広帯域特性を有する偏光膜の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510
FI (2件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510
引用特許:
審査官引用 (1件)

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