特許

J-GLOBAL ID：200903063976756204

ウエハ検査方法及びシステム

発明者： ヘニング バックハウス ,  アルベルト クレー
出願人/特許権者： ライカ マイクロシステムス セミコンダクタ ゲーエムベーハー
代理人 (3件)： 加藤 朝道 ,  内田 潔人 ,  三宅 俊男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-176744
公開番号（公開出願番号）：特開2006-005360
出願日： 2005年06月16日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

【課題】光学的検出器によって被検領域の光学的画像を撮像し、被検構造を明確に識別可能とするウエハ検査方法及びシステムを提供すること。【解決手段】被検領域の光学的画像の撮像が実行されるウエハ検査方法において、 ウエハに1つの層が形成される前に、第1の光学的画像25が撮像され、かつ当該層が少なくとも部分的に除去された後に第2の光学的画像26が撮像されること、及び前記第1の光学的画像と前記第2の光学的画像との対比によって、ウエハ表面の撮像された被検領域が検査されることを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被検領域の光学的画像の撮像が実行されるウエハ検査方法において、 ウエハ(2)に1つの層が形成される前に第1の光学的画像(25)が撮像され、かつ当該層が少なくとも部分的に除去された後に第2の光学的画像(26)が撮像されること、及び 前記第1の光学的画像と前記第2の光学的画像との対比によって、ウエハ表面の撮像された被検領域(23)が検査されること を特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/66 J ,  G01N21/956 A ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/30 577

Fターム (22件)：

2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051AC11 ,  2G051BB01 ,  2G051BB03 ,  2G051BB05 ,  2G051BB17 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ20 ,  5F046AA18 ,  5F046BA10 ,  5F046JA15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• DE 102 32 781 A1