特許

J-GLOBAL ID：200903063985214007

金属カルコゲナイド膜の製造方法

発明者： 松井 正宏 ,  南方 尚 ,  渡辺 隆行
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-275571
公開番号（公開出願番号）：特開平7-133102
出願日： 1993年11月04日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【構成】 カルコゲナイドイオンと金属イオンを含有する溶液に超音波または音波を印加しながら、基板表面に金属カルコゲナイド膜を形成する。【効果】 真空装置を用いることなく、簡便な方法で欠陥の少ない膜を形成できる。また、大面積の積層膜形成を容易に行うことができる。

請求項（抜粋）：

カルコゲナイドイオンと金属イオンを含有する溶液に超音波または音波を印加しながら、基板表面に金属カルコゲナイド膜を形成する金属カルコゲナイド膜の製造方法。

IPC (5件)：

C01B 17/20 ,  C01B 19/00 ,  H01L 31/04 ,  H01L 31/0264 ,  H01L 33/00

FI (2件)：

H01L 31/04 E ,  H01L 31/08 L