特許

J-GLOBAL ID：200903063989453995

多孔質シリカ、その多孔質シリカ形成用の塗布液、多孔質シリカまたは多孔質シリカ膜の製造方法、並びに多孔質シリカの用途

発明者： 村 上 雅 美 ,  高 村 一 夫 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  大 池 俊 輔
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-276515
公開番号（公開出願番号）：特開2003-089515
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：

【要約】【解決手段】本発明に係る多孔質シリカは、BET法により測定した比表面積が800m2/g以上であり、X線回折測定によって規則的構造を表すピークが存在しないことを特徴とする。【効果】本発明によれば、比表面積が大きく、かつ細孔分布が狭い多孔質シリカ、その多孔質シリカ形成用の塗布液、多孔質シリカまたは多孔質シリカ膜の製造方法、並びに多孔質シリカの用途を提供することが可能となる。

請求項（抜粋）：

BET法により測定した比表面積が800m2/g以上であり、X線回折測定によって規則的構造を表すピークが存在しないことを特徴とする多孔質シリカ。

IPC (8件)：

C01B 33/12 ,  B01D 53/28 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04

FI (9件)：

C01B 33/12 Z ,  C01B 33/12 C ,  B01D 53/28 ,  B01J 20/10 C ,  B01J 20/28 A ,  B01J 20/30 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04

Fターム (51件)：

4D052GB12 ,  4D052GB14 ,  4D052GB17 ,  4D052GB18 ,  4D052HA01 ,  4D052HA49 ,  4D052HB02 ,  4D052HB05 ,  4G066AA22B ,  4G066AA23D ,  4G066AB06A ,  4G066AB18A ,  4G066AB24A ,  4G066AC21A ,  4G066BA03 ,  4G066BA22 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA33 ,  4G066BA36 ,  4G066BA41 ,  4G066CA43 ,  4G066DA03 ,  4G066FA21 ,  4G066FA22 ,  4G066FA33 ,  4G066FA34 ,  4G066FA35 ,  4G066FA37 ,  4G072AA25 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ34 ,  4G072JJ38 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072NN21 ,  4G072RR05 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11 ,  4J038AA011 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038HA441