特許
J-GLOBAL ID:200903064000496786
磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-183933
公開番号(公開出願番号):特開2006-012216
出願日: 2004年06月22日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】その電磁変換特性を損なうことなく容易に磁気記録層をパターニングした磁気記録媒体を得る。【解決手段】磁気記録層とフォトレジストとの間にシリコン系保護膜を形成して、ドライエッチング、及び酸素プラズマ処理に供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
非磁性基板、該非磁性基板上に設けられ、トラック形状またはドット形状にパターン加工された磁気記録層、及び該磁気記録層表面のうち少なくとも該非磁性基板と反対側の表面上に形成されたシリコン系保護層を具備することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (4件):
G11B 5/72
, G11B 5/65
, G11B 5/84
, G11B 5/851
FI (5件):
G11B5/72
, G11B5/65
, G11B5/84 B
, G11B5/84 Z
, G11B5/851
Fターム (15件):
5D006AA02
, 5D006AA05
, 5D006AA06
, 5D006BB02
, 5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D006DA04
, 5D112AA05
, 5D112AA07
, 5D112AA24
, 5D112BB05
, 5D112BC04
, 5D112BC05
, 5D112GA20
, 5D112GA22
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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特開平4-001922
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磁気記録媒体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-002698
出願人:ホーヤ株式会社
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磁気記録媒体
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-093824
出願人:ホーヤ株式会社
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