特許

J-GLOBAL ID：200903064005924859

メッキ液中の不純物除去方法と装置

発明者： 飛田 幸男
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-211866
公開番号（公開出願番号）：特開平10-036999
出願日： 1996年07月23日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 メッキ装置からのメッキ液の移送に伴うコストと作業上の危険を除去するメッキ液の浄化方法及び装置を提供すること。【解決手段】 活性炭をメッキ液中に飛散させず且つメッキ液を透過する活性炭収納容器を用いて、メッキ液中の不純物の除去を行う方法であり、例えば、活性炭をメッキ液中に飛散させず且つメッキ液を透過する活性炭収納容器をメッキ液中に浸漬、撹拌すること、または、メッキ槽1から排出させたメッキ液を活性炭を含むフィルター槽3に導き、メッキ液中の不純物を除去した後にメッキ槽1内に再循環させるメッキ液中の不純物除去方法である。例えば、半導体ライン内で不純物除去作業が可能となり、汚染されたメッキ液を回収し、メッキ液製造メーカのプラントに移送する手間とそれに要するコストを削減した。また、メッキ液を常時濾過可能としたことで、メッキ液の有機物による劣化を抑制させ、メッキ液の液寿命を延ばすことができた。

請求項（抜粋）：

活性炭をメッキ液中に飛散させず且つメッキ液を透過する活性炭収納容器を用いて、メッキ液中の不純物の除去を行うことを特徴とするメッキ液中の不純物除去方法。