特許

J-GLOBAL ID：200903064006206399

基板処理装置

発明者： 山野 昭男
出願人/特許権者： 平田機工株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-152689
公開番号（公開出願番号）：特開2003-340339
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】【課題】 塗膜の乾燥を防止することのできる基板処理装置を提供すること。【解決手段】 移動台60が走行レール70上をスライドすることにより、塗布ヘッド20は基板1に沿って移動しながら、薬液を基板1の表面全体に塗布する。基板1の薬液の塗布が終了すると、移動台は待機位置(図1の左手前端の位置)に移動し、基板カバー部材30が降下してテーブル10上の基板1の表面をカバーし、基板1の表面を含む閉空間を形成する。

請求項（抜粋）：

基板を載置する載置手段と、前記載置手段に載置された基板の表面に対して薬液を塗布する薬液塗布手段と、前記薬液塗布手段により薬液を塗布された基板の表面をカバーする基板カバー部材と、を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

B05C 5/02 ,  B05C 9/12 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 5/02 ,  B05C 9/12 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 564 Z

Fターム (21件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096CA20 ,  2H096DA10 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA22 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA18 ,  4F042DD44 ,  4F042DE06 ,  5F046JA27