研磨用組成物の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202181
公開番号（公開出願番号）：特開2001-026771
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】長期間に亘って砥粒であるフュームドシリカの分散性が良好で、かつ優れた研磨性能を有する研磨用組成物の製造方法を提供する。【解決手段】予めpHを2〜4に調整した水中に、高剪断力を与えつつ、フュームドシリカの濃度が40〜60wt%になるまで添加・混合し、次いで水を加えて粘度が2〜10000cpsの範囲内になるように調整し、これを低剪断状態で少なくとも5分間撹拌し、フュームドシリカの濃度が10〜38wt%になるまで水を加え、さらに強撹拌下でpHが9〜12になるまで塩基性物質を加える製造方法である。

請求項（抜粋）：

予めpHを2〜4に調整した水中に、高剪断力を与えつつ、濃度が40〜60wt%になるまでフュームドシリカを添加・混合し、次いで水を加えて粘度が2〜10000cpsになるように調整し、これを低剪断状態で少なくとも5分間撹拌し、フュームドシリカの濃度が10〜38wt%になるまで水を加え、さらに強撹拌下でpHが9〜12になるまで塩基性物質を加えることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。

IPC (6件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , C01B 33/18 , H01L 21/304 622 , H01L 21/306

FI (6件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , C01B 33/18 , H01L 21/304 622 D , H01L 21/306 M

Fターム (26件)：

3C058AA07 , 3C058CB02 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 4G072AA28 , 4G072AA38 , 4G072CC18 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH17 , 4G072JJ11 , 4G072JJ21 , 4G072LL06 , 4G072MM02 , 4G072MM22 , 4G072PP17 , 4G072TT01 , 4G072TT05 , 4G072UU30 , 5F043AA29 , 5F043DD16 , 5F043DD30 , 5F043FF07 , 5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平3-060420
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-243196 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
ゾルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121998 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

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