特許
J-GLOBAL ID:200903064015398730

短光パルス波形整形装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大塚 学
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-044074
公開番号(公開出願番号):特開平9-043646
出願日: 1996年02月07日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】【課題】光パルス幅がキャリア寿命時間以下のピコ秒程度に短い光信号パルス列の雑音除去や波形整形を効果的に行うことができる短光パルス波形整形装置を提供する。【解決手段】可飽和吸収素子と、短光パルスよりなる入力信号パルス光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該入力信号パルス光によって該可飽和吸収素子内に生成された励起状態にある電子の消滅を誘導放出により促進させるために該入力信号パルス光の波長より長い波長の第2の光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該可飽和吸収素子から波形整形された該入力信号パルス光を取り出す手段とを備えた構成を有している。
請求項(抜粋):
可飽和吸収素子と、短光パルスよりなる入力信号パルス光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該入力信号パルス光によって該可飽和吸収素子内に生成された励起状態にある電子の消滅を誘導放出により促進させるために該入力信号パルス光の波長より長い波長の第2の光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該可飽和吸収素子から波形整形された該入力信号パルス光を取り出す手段とを備えた短光パルス波形整形装置。
IPC (4件):
G02F 1/35 ,  H01S 3/18 ,  H04B 10/28 ,  H04B 10/02
FI (3件):
G02F 1/35 ,  H01S 3/18 ,  H04B 9/00 W

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