特許

J-GLOBAL ID：200903064030867673

X線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスク

発明者： 菊池 則文 ,  山下 博明 ,  松井 安次 ,  丸本 健二 ,  矢部 秀毅
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 田澤 博昭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-189677
公開番号（公開出願番号）：特開平8-054726
出願日： 1994年08月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 緻密で平滑性のよいX線吸収体を有するX線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスクを提供する。【構成】 薄厚の基板31の平滑な面に非晶質または微結晶のいずれかからなるX線吸収体21を形成する吸収体形成工程と、X線吸収体21上にダイヤモンド膜22を成膜するダイヤモンド成膜工程と、基板31を除去する基板除去工程と、X線吸収体21に所定のパターンを形成するパターン形成工程とを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

薄厚の基板の平滑な面に非晶質または微結晶のいずれかからなるX線吸収体を形成する吸収体形成工程と、該X線吸収体上にダイヤモンド膜を成膜するダイヤモンド成膜工程と、前記基板を除去する基板除去工程と、前記X線吸収体に所定のパターンを形成するパターン形成工程とを備えたことを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  C01B 31/06 ,  C30B 29/04 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-051216