特許
J-GLOBAL ID：200903064032661266
純水製造装置の組立方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
正林 真之
, 藤田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-107644
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288336
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】純水製造装置を熱水殺菌する際に、逆浸透膜装置などの水処理機器から有機物などの汚染物質が溶出することを防止できる純粋製造装置の組立方法を提供する。【解決手段】純水製造装置1に含まれる水処理ユニット10を構成する逆浸透膜装置5や脱塩装置7などの水処理機器に、熱水を通水する熱水通水処理を実施する。熱水通水処理は、水処理機器に所定温度の熱水を所定時間通水する熱水保持工程を含む。熱水保持工程の後、これらの機器の温度を低下させる降温工程を実施し、水処理ユニット10を被処理水管21に接続し、純水製造装置1を組立てる。組立てられた純水製造装置1には、被処理水管21から原水を供給して、純水を製造する。熱水通水工程の前に、水処理機器の温度を上昇させる昇温工程を実施することが好ましい。降温工程および昇温工程は、水処理機器の温度を徐々に変化させることが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の水処理機器を含む水処理ユニットを備え、不純物を含む被処理水を前記水処理ユニットに導入して前記被処理水に含まれる不純物を除去して純水を製造し、この純水を純水使用場所に供給する純水製造装置の組立方法であって、
前記水処理機器に熱水を通過させて熱水排水として排出する熱水保持工程と、
前記熱水の供給を停止して前記熱水保持工程を終了した後、前記水処理機器の温度を低下させる降温工程と、を含む純水製造装置の組立方法。
IPC (1件)：
FI (8件)：
C02F9/00 502A
, C02F9/00 502E
, C02F9/00 502F
, C02F9/00 502H
, C02F9/00 502J
, C02F9/00 502Z
, C02F9/00 503Z
, C02F9/00 504B
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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